화성 이어 두 번째 EUV 전용라인…올 하반기 5나노 제품 양산
[민주신문=허홍국 기자] 삼성전자가 세계 1위 파운드리 기업 대만 TSMC 격차 벌리기에 평택 극자외선(EUVㆍExtreme Ultra Violet)생산 전용라인 구축으로 속도를 낸다.
이번 파운드리 투자는 화성 이은 두 번째로, 규모는 10조원대 안팎으로 알려졌다.
반도체업계에 따르면 삼성전자는 21일 ‘반도체 비전 2030’일환으로 경기도 평택캠퍼스에 EUV 기반의 최첨단 제품 수요에 대응하는 반도체 위탁 생산 시설 구축에 나선다고 밝혔다.
가동은 오는 2021년이 목표이며, 이번 투자는 지난해 4월 이재용 부회장이 오는 2030년까지 133조원을 투자해 시스템 반도체 1위 자리를 차지하겠다는 것에 따른 후속 조치다.
이번 투자 규모는 10조원에 달하는 것으로 알려졌다.
화성에 이어 평택에 도입하는 EUV 노광 기술은 파장이 짧은 극자외선 광원으로 웨이퍼에 반도체 회로를 새기는 기술이다.
이 기술은 초미세 회로 구현이 가능하고, 고성능ㆍ저전력 반도체를 만드는 데 필수다.
이처럼 삼성이 파운드리 생산라인 구축에 나서는 것은 ‘반도체 비전 2030’과 더불어 세계 1위 대만 TSMC가 이달 미국 공장 설립을 발표하며 격차를 벌리려고 하는데 따른 반격인 측면도 있다.
글로벌 파운드리 시장 2위인 삼성 입장에선 추격의 고삐를 늦춰서는 안 된다는 판단도 작용한 것으로 분석된다.
시장조사업체 트렌드포스에 따르면 올해 1분기 글로벌 파운드리 시장 1위는 기업은 TSMC로, 전체 시장의 54.1%를 차지하고 있다. 반면 삼성전자는 15.9%에 그쳤다.
특히 주목할 것은 최근 TSMC가 미국에 5나노 파운드리 공장 설립을 발표하며 삼성을 따돌리려는 모습을 보이고 있다는 점이다. TSMC는 2나노 공정을 개발 중이며, 올해 5나노 공정 생산에 돌입할 예정이다.
삼성전자도 5나노 제품을 올해 하반기 화성에서 먼저 양산한 뒤 이후 평택 파운드리 라인에서도 5나노 제품 생산에 나설 계획이다. 현재까지 5나노 공정은 현존하는 최고 난도의 초미세공정이다.
삼성전자는 지난해 ‘반도체 비전 2030’ 발표 이후 파운드리 생산시설 투자를 지속적으로 확대해오고 있다.
이와 관련, 삼성전자 DS부문 파운드리사업부 정은승 사장은 “앞으로 5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나가겠다”고 밝혔다.